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题名/责任者:

集成电路制造技术/张亚非，段力编著

出版发行项:

上海:上海交通大学出版社,2018.10

ISBN及定价:

978-7-313-18651-5/CNY88.00

载体形态项:

439页:图;26cm

个人责任者:

张亚非 编著

个人责任者:

段力 编著

学科主题:

集成电路工艺-教材

中图法分类号:

TN405

一般附注:

前沿电子信息专业教材系列

提要文摘附注:

本书主要讲述集成电路与微纳制造工艺技术，既有基本原理和工艺技术的阐述，也有国内外近期发展状况的介绍。本书把集成电路的工艺技术分类为图形化(光刻)、加法(薄膜的技术)、减法(刻蚀技术)、乘除法(离子注入、silicide)及其集成电路工程学(良率、可靠性)和集成电路后勤工作(超净间、lC衍生产业链)几大类，便于学生掌握、记忆和类推。

使用对象附注:

本书可作为高等院校微电 子学和半导体专业本科生的教材，也可供有关专业本科生研究生及工程技术人员阅读参考

电子资源:

http://www.cxstar.com/Book/Detail?pinst=P6u77RH0me5oQF0l5w3&ruid=264eb7d4001aefXXXX

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